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        弧源設計、參數要注意什么呢?

        文章出處:網責任編輯:作者:人氣:-發表時間:2019-09-18 09:29:01 【

             多弧離子鍍膜機是一種高效的真空鍍膜設備,設備的核心部件陰極弧源主要是用于等離子的發射,而等離子體的發射質量是影響整個鍍膜過程以及成膜質量關鍵因素。通?;≡垂ぷ鲿r會產生一些宏觀顆粒雜質,而對宏觀顆粒進行彎管磁過濾是去除它最常見的方式,實際工業也應用最廣泛,但采用彎管磁過濾大大降低了離子濃度,用于工具涂層無論是成膜質量還是成膜速率都不是好的選擇。
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            優秀的弧源設計完全可以做到大多數金屬穩定、高效、潔凈的弧光放電,在源頭遏制住大顆粒的產生。因此,對離子弧源的磁場、結構分析以及測試研究具有重要理論意義和實際價值。
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             根據等離子體運動力學特性,結合銳角法則以及磁場聚焦原理,研究了等離子體在磁場下的運動情況,建立了離子弧源的磁場模型,基于FEMM二維磁場分析軟件,分析對比在靶后方加軸對稱磁場和在靶后以及靶面加軸對稱磁場兩種情況下,弧源靶面的橫向和軸向磁場分量,選定優秀磁場,為弧源的結構設計提供重要的理論依據;基于ANSYS軟件對弧源靶體進行了有限元熱學仿真模擬,比較靶體的直接冷卻與通過銅靶座間接冷卻的差異,并確定冷卻形式;通過SolidWorks對弧源主要進行三維結構建模,在保證弧源的真空密封以及磁場結構的情況下,合理設計靶體部分組合裝配方式,保證弧源的良好工作;最后基于PCB微鉆的性能要求,通過測試并對比該離子弧源鍍膜成品膜層的性能,對等離子弧源設計與應用提供理論和實踐依據。
         

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